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1/15成本,實現(xiàn)AI水印新SOTA | 南洋理工大學(xué)&A*STAR

人工智能 新聞
來自南洋理工大學(xué)和新加坡A*STAR前沿人工智能研究中心等機構(gòu)的研究人員,提出了一種全新的局部魯棒圖像水印方法——MaskMark。

給AI生成的作品打水印,讓AIGC圖像可溯源,已經(jīng)成為行業(yè)共識。

問題是,傳統(tǒng)水印方法通常把圖像當(dāng)成一個整體處理,全局嵌入、水印提取一鍋端,存在不少“短板”:

比如,圖像局部區(qū)域被篡改,就可能導(dǎo)致全局提取失敗,也無法定位水印所在具體區(qū)域。

又比如,無法只保護某個區(qū)域,如人臉、LOGO等。

針對這個問題,現(xiàn)在,來自南洋理工大學(xué)和新加坡A*STAR前沿人工智能研究中心等機構(gòu)的研究人員,提出了一種全新的局部魯棒圖像水印方法——MaskMark。

該方法不僅在多個任務(wù)中全面超越Meta出品的SOTA模型WAM,而且訓(xùn)練成本只有它的1/15。

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具體而言,MaskMark支持:

  • 多水印嵌入
  • 可精準(zhǔn)定位篡改區(qū)域
  • 靈活提取局部水印
  • 自適應(yīng)支持32/64/128比特

核心思路:讓模型“看得見”水印在哪里

研究人員引入了一種掩碼機制,訓(xùn)練時告訴模型“水印藏在這里”,教它學(xué)會精準(zhǔn)地嵌入和提取。

他們給MaskMark設(shè)計了兩個版本:

MaskMark-D(解碼掩碼)

  • 水印全圖嵌入,但能定位水印位置,支持局部提取。
  • 即使部分圖像被篡改,也能成功提取水印。
  • 適合用于整體圖像保護、版權(quán)聲明和內(nèi)容驗證。

MaskMark-ED(編碼+解碼掩碼)

  • 水印只嵌入圖像的特定區(qū)域(比如人臉或LOGO)。
  • 對小范圍攻擊更魯棒,提取效果更好。
  • 適合局部敏感內(nèi)容保護、隱私感知場景等。

其中核心技術(shù)流程,是訓(xùn)練和推理的雙重優(yōu)化。

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MaskMark 的端到端訓(xùn)練流程主要包括四個階段:

  1. 掩碼生成(Mask Generation):從四種預(yù)定義類型(全掩碼、矩形掩碼、不規(guī)則掩碼、分割掩碼)中隨機選擇或生成一個掩碼M。
  2. 水印嵌入(Watermark Embedding):編碼器將水印比特圖片嵌入原始圖像圖片(對于 MaskMark-ED可選擇性地嵌入掩碼M來指導(dǎo)嵌入位置),生成水印圖像圖片。此過程利用輕量級CNN處理水印比特,并結(jié)合U-Net結(jié)構(gòu)及JND模塊優(yōu)化視覺效果。
  3. 水印掩碼操作(Watermark Masking):使用掩碼M融合圖片圖片,生成圖片,即僅在掩碼區(qū)域保留水印。隨后對圖片施加隨機失真得到圖片
    并再次用M裁剪出僅含水印信號的圖片區(qū)域。
  4. 水印提取(Watermark Extraction):


    解碼器從圖片中預(yù)測掩碼圖片,并從圖片中提取水印比特圖片。解碼器包含專門用于掩碼預(yù)測的 U2-Net 和用于水印提取的U-Net及CNN模塊。

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MaskMark推理時,解碼器首先利用定位模塊識別含水印區(qū)域,將非水印區(qū)域置零以減少干擾,然后從保留區(qū)域恢復(fù)水印,這對于小區(qū)域水印提取尤為重要。

在多項不同的任務(wù)上均表現(xiàn)出SOTA的性能

研究人員在多項不同任務(wù)上驗證了MaskMark的性能。

首先,MaskMark能實現(xiàn)高提取精度。

在全局水印任務(wù)中,即使在高視覺保真度(PSNR > 39.5, SSIM > 0.98)下,MaskMark-D和MaskMark-ED仍能保持近乎100%的比特準(zhǔn)確率,尤其在各類值度量和幾何失真攻擊下表現(xiàn)優(yōu)異,顯著優(yōu)于現(xiàn)有基線模型。

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在局部水印任務(wù)中,實驗表明,當(dāng)水印信號分布在圖像的不同大小區(qū)域時,MaskMark仍能保持近乎100%的提取準(zhǔn)確率,顯著優(yōu)于其他全局方法,并超過當(dāng)前最先進(jìn)的局部水印模型WAM。尤其在小面積嵌入場景中,MaskMark-ED展現(xiàn)出更加出色的表現(xiàn)。

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其次,MaskMark能實現(xiàn)精準(zhǔn)水印定位。

在不同水印區(qū)域比例和失真條件下,其定位性能(以IoU衡量)均優(yōu)于EditGuard和WAM等方法。MaskMark-ED在小區(qū)域定位上更具優(yōu)勢。

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MaskMark還具備多水印嵌入能力

盡管并非為此專門訓(xùn)練,MaskMark-ED在單個圖像中嵌入多達(dá)5個不同水印時,依然保持強大的提取和定位性能,優(yōu)于WAM。

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高效性和擴展性方面,訓(xùn)練效率上,MaskMark僅需在單個A6000 GPU上訓(xùn)練約20小時,計算效率(TFLOPs衡量)比WAM高出15倍。

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消息長度方面,MaskMark可輕松擴展至不同比特長度(如32、64、128位),并保持較高性能,而WAM則受限于32位。

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另外,MaskMark還支持快速微調(diào)*。

通過簡單調(diào)整失真層或進(jìn)行少量微調(diào)(如針對VAE自適應(yīng)攻擊,僅需20k訓(xùn)練步數(shù)),MaskMark即可適應(yīng)不同魯棒性需求和新興威脅。

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論文鏈接:
https://arxiv.org/abs/2504.12739
代碼鏈接:
https://github.com/hurunyi/maskmark

責(zé)任編輯:張燕妮 來源: 量子位
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