目前的垂直磁記錄（PWR）技術(shù)預(yù)計(jì)很快將達(dá)到每平方英寸1Tb的物理密度極限。不過不用擔(dān)心，科學(xué)家已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了一種降低硬盤盤片上磁點(diǎn)間隙，同時又不會讓磁點(diǎn)相互影響的新方法。

這種“直接自我排列”新技術(shù)可以讓硬盤存儲密度再提升五倍，讓“古老”的硬盤技術(shù)增加4-5年的壽命。

簡單來說，新技術(shù)就是在磁點(diǎn)之間形成微型“墻壁”。研究人員使用的是不具備磁性，且可以自動排列成“高度規(guī)則點(diǎn)或線樣式”的異量分子聚合物。當(dāng)處于一個放置“標(biāo)記物”的表面時，這種聚合物可以自動形成某種樣式的墻，并且讓磁點(diǎn)以比現(xiàn)有硬盤更加緊密的方式排列。

當(dāng)然，一種新技術(shù)能否成功取決于是否能夠被大規(guī)模量產(chǎn)。研究人員表示他們正在和日立硬盤合作評估“直接自我排列”技術(shù)能否被經(jīng)濟(jì)地應(yīng)用于硬盤生產(chǎn)中。在實(shí)驗(yàn)室中，聚合物在“某種情況下”能在30秒內(nèi)完成自動排列。
 

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